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半導(dǎo)體冷熱臺(tái)可精確控制樣品溫度并實(shí)時(shí)測(cè)試其光學(xué)特性

更新時(shí)間:2025-08-27      點(diǎn)擊次數(shù):7
  半導(dǎo)體冷熱臺(tái)作為先進(jìn)的材料表征設(shè)備,通過(guò)集成化的溫控系統(tǒng)與光學(xué)測(cè)量模塊協(xié)同運(yùn)作,實(shí)現(xiàn)了對(duì)樣品溫度的精準(zhǔn)調(diào)控及動(dòng)態(tài)光學(xué)性能的原位檢測(cè)。該裝置采用半導(dǎo)體致冷(帕爾貼效應(yīng))與加熱技術(shù)相結(jié)合的方式,可在極寬的溫度范圍內(nèi)快速建立穩(wěn)定溫區(qū),其閉環(huán)反饋機(jī)制確保設(shè)定值與實(shí)際溫度偏差控制在±0.1℃以內(nèi),為材料相變研究提供了理想的熱力學(xué)環(huán)境。
  半導(dǎo)體冷熱臺(tái)在具體操作流程中,當(dāng)樣品被安置于真空腔內(nèi)的精密載物臺(tái)上后,控制系統(tǒng)即啟動(dòng)梯度降溫程序,通過(guò)脈沖寬度調(diào)制技術(shù)精確調(diào)節(jié)制冷功率,使溫度以用戶定義的速率線性下降至目標(biāo)值。此過(guò)程中,內(nèi)置的高靈敏度光電探測(cè)器持續(xù)采集透射率、反射率或熒光光譜數(shù)據(jù),同步記錄不同溫度點(diǎn)的光學(xué)參數(shù)變化曲線。對(duì)于需要變溫研究的實(shí)驗(yàn)場(chǎng)景,系統(tǒng)支持多段編程升溫/降溫循環(huán),可自動(dòng)完成從低溫到高溫的全域掃描,并實(shí)時(shí)繪制出完整的變溫光譜圖譜。
  半導(dǎo)體冷熱臺(tái)的光學(xué)測(cè)試通道經(jīng)過(guò)特殊設(shè)計(jì),既保證了低溫環(huán)境下的光路穩(wěn)定性,又避免了熱應(yīng)力導(dǎo)致的機(jī)械偏移。模塊化的光源組件涵蓋紫外到近紅外波段,配合濾光片切換功能,能夠滿足不同材料的吸收譜、發(fā)射譜及拉曼散射特性分析需求。尤為突出的是,該平臺(tái)具備原位晶體生長(zhǎng)觀測(cè)能力,在沉積薄膜或外延層制備過(guò)程中,科研人員可直觀監(jiān)測(cè)材料結(jié)構(gòu)隨溫度演變的光學(xué)響應(yīng)特征。
  針對(duì)微弱信號(hào)檢測(cè)需求,半導(dǎo)體冷熱臺(tái)配備了鎖相放大技術(shù)和噪聲抑制算法,有效提升信噪比,確保在極低光照條件下仍能捕獲高質(zhì)量的光譜信息。數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)與主流分析軟件無(wú)縫對(duì)接,支持實(shí)時(shí)顯示、存儲(chǔ)及后期處理,用戶可根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求自定義數(shù)據(jù)處理方案。這種將溫度控制精度、光學(xué)測(cè)量靈敏度和操作便捷性結(jié)合的設(shè)計(jì),使其在半導(dǎo)體物理、光電子學(xué)及納米材料研究領(lǐng)域展現(xiàn)出重要應(yīng)用價(jià)值。
 

 

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